Sancţiunile americane impuse Chinei au blocat accesul la mii de componente şi software pentru fabricarea cipurilor, inclusiv echipamentele avansate produse de ASML, complicând progresul tehnologic chinez.

Experţii chinezi solicită un efort naţional unificat pentru a dezvolta prototipuri de maşini de litografie EUV şi integrarea componentelor produse intern, în ciuda fragmentării industriei autohtone.

China trebuie să abandoneze speranţele în soluţii rapide şi să se pregătească pentru o luptă îndelungată în dezvoltarea independenţei tehnologice în sectorul semiconductor.