China ar putea reduce rapid decalajul în litografia avansată, susțin Jensen Huang și Elon Musk
Tehnologie

China ar putea reduce rapid decalajul în litografia avansată, susțin Jensen Huang și Elon Musk

Buletin de știri, cele mai importante subiecte ale orei (3 octombrie 2026, ora 21:24)

Jensen Huang și Elon Musk apreciază că China va putea depăși într-un interval relativ scurt lipsa echipamentelor avansate de litografie, esențiale pentru producția de cipuri performante, cu Musk estimând 2-3 ani și Huang indicând 2030.

În pofida faptului că unii experți din industrie consideră că procesul este mult mai lung și dificil, constrângerile și blocajele impuse de sancțiunile internaționale stimulează dezvoltarea tehnologică accelerată locală.

Compania ASML continuă să avanseze pe segmentul maşinilor EUV, dar China își dezvoltă soluții proprii, iar realizarea unei litografii locale competitive poate avea un impact major asupra lanțurilor globale de producție.